解碼國際／路透：中國版「曼哈頓計畫」 追趕西方自製AI晶片

路透社17日報導，中國科學家在深圳一間高度安全戒備的實驗室裡，建造了一台華盛頓多年來一直阻止其打造的設備：一台能夠生產先進半導體晶片的原型機器；這些晶片將為發展人工智慧(artificial intelligence, AI)、智慧型手機和西方軍事霸權的核心武器提供動力。

這台在2025年初完成、目前正進行測試的原型機器，幾乎佔據了整個廠房。根據兩位對該計畫知情的消息人士透露，該原型機器由一個荷蘭半導體巨擘艾司摩爾(ASML)的前工程師團隊打造，他們對該公司的極紫外光刻機(extreme ultraviolet lithography machines, EUVs)進行了逆向工程仿製。

極紫外光刻機是這場技術冷戰的核心。該機器利用極紫外光束在矽晶圓上蝕刻出比人類髮絲細數千倍的電路，這項技術目前受到西方壟斷。電路越小，晶片性能就越強大。

這些消息人士表示，中國的機器已經能夠運作，成功產生極紫外光，但尚未生產出可用的晶片。

艾司摩爾執行長福克(Christophe Fouquet)今年4月表示，中國將需要「很多很多年」才能研發出這樣的技術。但這台由路透社首度報導的原型機器的存在，表明了中國在實現半導體自主方面，可能比分析師預期的要快得多。

儘管如此，中國仍面臨重大的技術挑戰，尤其是在複製西方供應商生產的精密光學系統方面。

根據2位知情人士透露，由於二手市場上可以找到艾斯摩爾舊機器的零件，中國得以打造出國產的原型機器，政府目標是在2028年之前以該原型機器生產出可用晶片。

不過接近該計畫的消息人士表示，更實際的目標是2030年，這仍然比分析師此前認為中國要在晶片領域趕上西方所需的10年時間要早得多。

中國當局並未回應置評請求。

中國的曼哈頓計畫

這項突破標誌著中國政府為實現半導體自主的6年計畫取得了最終成果，而半導體自主是中國國家主席習近平的最高優先任務之一。知情人士透露，儘管中國的半導體發展目標已經公開，但深圳的極紫外光刻計劃一直在秘密進行。

該計劃隸屬於中國的半導體策略，中國官媒指出，該策略由習近平的親信、中央科技委員會主任丁薛祥負責。

根據這兩名知情人士與第三位消息人士表示，中國電子巨擘華為在協調遍布全國的眾多企業和國家科學研究機構中發揮著關鍵作用，這些企業和研究機構涉及了成千上萬名工程師。

知情人士將這項計畫比喻為中國版的「曼哈頓計畫」(Manhattan Project)。曼哈頓計畫是美國在第二次世界大戰中研發原子彈的計劃。

其中一名知情人士表示：「目標是讓中國最終能夠以完全由中國製造的機器設備來製造先進晶片。」他說：「中國要美國百分之百退出其供應鏈。」

華為、中國國務院、中國駐華盛頓大使館和中國工業和信息化部均未回應置評請求。

突破關鍵：ASML前員工

一名對招募過程知情的人士透露，該計畫招募的其中一位從艾司摩爾退休的中國工程師驚訝地發現，他豐厚的簽約獎金還附帶著一張以假名製作的身分證件。

該知情人士表示，進入計劃後，這位工程師就認出了其他同樣使用假名工作的艾司摩爾前同事，並收到指示在工作時使用假名以保密。另一名知情人士也獨立證實，招募來的員工都獲得了假身分，以對在這個安全設施內工作的人員隱瞞真實身分。

這兩人表示，指導方針十分明確：這被列為國家安全機密，園區外任何人都不能知道他們在打造什麼，甚至不能知道他們在這個地方。

知情人士表示，該團隊包括了出生於中國、最近退休的前艾司摩爾工程師與科學家，他們是主要的招募目標，因為他們擁有敏感的技術知識，但離開公司後面臨的職業限制較少。

兩名目前在荷蘭工作的中國籍艾司摩爾員工告訴路透社，至少從2020年起，華為的招募人員就已經接近聯繫了他們。

華為沒有回應置評請求。

歐洲隱私權法限制了艾司摩爾追蹤前員工的能力。儘管員工簽署了保密協定，但跨境執行這些保密協定已被證明十分困難。

艾司摩爾在2019年贏得了一項判決，一名被控竊取商業機密的中國前工程師被判應賠8.45億美元。但根據法庭文件，被告申請了破產，並在中國政府的支持下持續在北京營運。

艾司摩爾告訴路透社，該公司「嚴密保護」商業機密和機密資訊。艾司摩爾表示：「雖然艾司摩爾無法控制或限制前員工的工作地點，但所有員工都受到合約中保密條款的約束。」且該公司「成功就商業機密遭竊一事採取了法律行動。」

路透社無法確認，是否已對參加中國光刻計劃的前艾司摩爾員工採取了任何法律行動。

艾司摩爾表示，為了保護EUV技術，即使在公司內部，也只有特定員工才能存取相關資訊。

荷蘭情報部門今年4月在一份報告中提出警告，中國「利用廣泛的間諜活動計劃，試圖從西方國家獲取先進科技和知識。」這包括招募「西方科學家和高科技公司員工」。

知情人士表示，這些艾司摩爾的老員工使深圳的突破成為可能。沒有他們對這項技術的深入了解，就幾乎不可能對這些機器進行逆向工程仿製。

根據路透社查閱的政府政策文件顯示，這些人的招募屬於中國政府在2019年發起的一項積極舉措，提供300萬至500萬人民幣(約42萬到70萬美元)的簽約獎金，以及購房補貼，旨在吸引在海外工作的半導體專家。

根據專利申請文件，這次招募到的人員包括了艾司摩爾前光源技術負責人林楠，他在中國科學院上海光學精密機械研究所的團隊在18個月內提交了8項EUV光源的專利申請。

上海光機所並未回覆置評請求。路透社無法聯絡到林楠本人發表評論。

另有兩位熟悉中國招募努力的知情人士表示，一些其他國家的歸化公民獲得了中國護照，並被允許保留雙重國籍。

中國官方禁止雙重國籍，並未就發放護照問題做出回應。

中國當局並未回應置評請求。

中國EUV工廠內部

艾司摩爾最先進的EUV系統，體積大約和一輛校車相仿，重180公噸。根據這兩名知情人士，在多次嘗試複製其尺寸失敗後，深圳實驗室內的原型機器體積增大了數倍，以提升其功率。

這些知情人士表示，與艾司摩爾的機器相比，中國的原型機器顯得粗糙，但足以運作進行測試。

這兩名知情人士表示，中國的原型機器大幅度落後於艾司摩爾的機器，因為研究人員難以取得如德國蔡司公司(Carl Zeiss AG)提供的光學系統。蔡司公司是艾司摩爾的關鍵供應商之一。

蔡司公司拒絕發表評論。

這些機器向熔融錫發射每秒5萬次雷射光，產生溫度高達攝氏20萬度的電漿。根據蔡司公司的網站，光束是透過需時數個月製造的反射鏡進行聚焦。

根據這兩名知情人士，中國的頂尖研究機構在研發國產替代設備方面發揮了關鍵作用。

其中一名知情人士表示，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所(CIOMP)在將極紫外光整合到這台原型機器的光學系統方面取得了突破，使其在2025年初得以運作，儘管光學系統仍需大幅度改進。

常春光機並未回應置評請求。

該機構今年3月在其網站上發布的一份線上招募公告表示，將為光刻博士研究人員提供「不設上限」的薪資，以及高達400萬人民幣(56萬美元)的研究經費，加上100萬人民幣(14萬美元)的個人補貼。

研究機構SemiAnalysis的分析師兼前艾司摩爾工程師科克(Jeff Koch)表示，如果「光源功率足夠、可靠且不會產生過多污染」，中國將取得「實質性進展」。

他說：「毫無疑問，這在技術上是可行的，只是時間問題。」他表示：「中國的優勢在於，商用極紫外光刻機已經存在，所以他們並非從零開始。」

這兩名知情人士表示，為了取得所需零件，中國正從舊艾司摩爾機器上拆卸零件，並透過二手市場向艾司摩爾供應商採購零件。

知情人士表示，有時會利用中間商網絡來掩蓋最終買家的身分。

一名知情人士和另外一位消息人士表示，該原型機器使用了來自日本尼康(Nikon)和佳能(Canon)公司受出口限制的零件。尼康拒絕置評，佳能則表示並不知曉此類報導。日本駐華盛頓大使館並未回應置評請求。

消息人士表示，國際銀行會定期拍賣老舊的半導體製造設備。

檢視阿里巴巴(Alibaba)旗下平台「阿里拍賣」(Alibaba Auction)上列出的拍賣訊息，中國最近一次拍賣老舊的艾司摩爾光刻設備是在2025年10月。

根據知情人士的說法，一個由約100名應屆大學畢業生組成的團隊，正專注於對EUV和深紫外光(DUV)光刻機器的零件進行逆向工程。

每位員工的辦公桌上都安裝了一台攝影機，記錄其拆卸和重新組裝零件的努力，知情人士稱這項工作對於中國的光刻技術發展至關重要。

知情人士還表示，成功重新組裝零件的員工將獲得獎金。

華為科學家夜宿現場

4名熟悉華為運作的知情人士表示，雖然EUV計畫是由中國政府主導，但華為參與了從晶片設計、製造生產設備、到最終將其整合到智慧型手機等產品的整個供應鏈環節步驟。

知情人士之一透露，華為執行長任正非會向中國領導高層做進度簡報。

美國在2019年將華為列入實體清單，禁止美國公司在未獲許可的情況下與華為進行業務往來。

華為已在全國各地的辦公室、製造工廠和研發中心部署員工參與此一計畫。知情人士表示，被分配到半導體團隊的員工經常夜宿工作現場，且在工作日週間禁止回家，負責敏感任務的團隊還會限制電話使用。

在華為內部，很少員工知道這項工作的規模。其中一名知情人士表示：「為了保護計劃的機密性，這些團隊彼此之間受到了隔離。」

他說：「他們不知道其他團隊在做什麼。」 (編輯:柳向華)