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　　有片特性的知，合有反射率和偏振的了解，可以助客更好地片。

了正地工CO2雷射反射片，您必了解反射片在您的雷射系是如何工作的。在一典型的雷射系，可能只有一到透射式光元件，通常是用作雷射的出和末端的聚焦透。另一方面，在一些高功率CO2雷射系中，可能有五或更多反射式光元件。反射式光元件作尾和反射用於雷射，以及光束系中的光束向。

了的反射片雷射系的用多不利原素。雷射功率的降低、光束模式不定、光束散角的增大以及雷射束的形是可能生的的一部分。意味著更低的效率，或者不合格的切割、理或焊接。

在去的20年，可用的反射片膜的量已急增。雷射系者需要了解些反射片基底和膜的特性，以便一反射片，以最低的成本到期的雷射能量和偏振特性。

述中，探CO2雷射反射片主要元件的特性基底和薄膜。同，可以看出如何正的基底和膜，在雷射用和光束系中都是很的。

的基本
於高功率雷射系中反射片基底的基於原素。者必考基底的性、物理特性及反射片的成本。在去十年，雷射功率得到了提升，在自然的程中，候基底材料的窄了。那些格高特性差的材料已位格低、性好的材料。

前，用最的反射片基底材料是矽，其次是。比如和金的材料，需要他特性的候有用作反射片使用。透射式材料也被使用，者需要少量的雷射“池漏”，穿反射片到雷射功率。

基本性於反射片是重要的。械性和成本也是者在基底材料要考的重要原素。列了矽和的性和械性。

反射片膜吸收了雷射使反射片度上升。基本必扮演散片的作用，以免使反射片和雷射束生形。具有高性的反射片由於吸收降低了量。低性膨系可以保反射片的形降到最低。的性是矽的2.5倍，但被他各自的性膨系所抵消；的膨系是矽的6.5倍。之，矽的定性比高，而生小的形。

安不引起的表面形也是光工程主要注的。基底材料的物理特性定了在保反射片不生形基底必多，以及可以承受多大的安力。透比矽和的物理特性示，矽在高氏模量上的微弱被其低的泊松比所抵消。同度的矽反射片和反射片由於安力所引起的偏差基本一致。

其它的是硬度和量密度。用作基底的是的、理密和多晶的氧。它很柔，有延展性，很用道工光。所以，金石削泛用於加工反射。在理和安反射需要特小心，因它很容易刮或形。最後一，因矽原材料更加便宜且易於光，成品反射片一般比矽反射片要。

看起用矽取代，其有矽的地方。因很容易在上孔，所以反射通常都在基底上留有水冷和安孔，而矽基不太容易做。同，矽反射片由於膜上污垢的度吸收量而，所吸收的雷射能量引起反射片的炸裂或。致外的停，因光束系和雷射的境需要特的清。而，因其高性和高熔，不生炸裂或。